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离子束溅射镀膜与清洗多功能平台

澳门线上赌博游戏官方网站日期:2020-02-12 澳门线上赌博游戏官方网站: 澳门线上赌博游戏官方网站:

离子束溅射系统与清洗多功能渠道是在真空环境中,使用离子轰击靶材外表,使溅射出的粒子沉积在基片上,进而取得大面积纳米至微米级厚度的均匀膜层。技术指标如下:

1. 极限真空度:≤6.0×10-5 Pa (经烘烤除气后);

2. 体系真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

3. 体系短时间暴露大气并充枯燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0×10-4 Pa;

4. 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa;

5. 溅射真空室尺度Ф 450mm ×350mm,电动上掀盖结构,可内烘烤100~ 150℃ ,选用不锈钢材料制造,氩弧焊接,外表进行特别工艺抛光处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;

离子束溅射系统

6. 磁控溅射靶材尺度为Φ3英寸,2路500W射频溅射,1路500W直流溅射,射频溅射与直流溅射兼容,可完成单靶独立,多靶轮番、组合共溅等作业形式,靶内有水冷,有电动操控挡板组件及靶屏蔽罩。三个靶可共同折向下面的样品中心,靶与样品间隔90~ 110mm 可调;

7.可镀基片尺度为Φ 50mm ,基片加热温度 600°C ± 1°C ,由热电偶闭环反馈操控;基片可连续反转,转速5~10转/分;基片可以加200V负偏压;配1套手动操控样品挡板组件及2个样品托;

8.镀膜厚度不均匀性≤5%;

9. 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护体系。

10. 镀膜自动操控。计算机操控体系完成对靶挡板、样品自转、样品控温等操控。

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