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离子束溅射系统

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磁控溅射镀膜仪的种类

澳门线上赌博游戏官方网站日期:2020-02-18 澳门线上赌博游戏官方网站: 澳门线上赌博游戏官方网站:

 磁控溅射品种磁控溅射包括很多品种。各有不同作业原理和使用目标。但有一共同点:使用磁场与电场交互作用,使电子在靶外表邻近成螺旋状运转,然后增大电子撞击氩气发生离子的概率。所发生的离子在电场作用下撞向靶面然后溅射出靶材。

  靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同,大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等,南北极磁力线闭合于靶面,很好地将电子/等离子体束缚在靶面邻近,添加碰撞几率,提高了离化功率,因此在较低的作业气压和电压下就能起辉并维持辉光放电,靶材使用率相对较高,但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面,基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技能概念,即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极,南北极磁力线在靶面不完全闭合,部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域,然后部分电子可以沿着磁力线扩展到基片,添加基片

磁控溅射镀膜仪

  区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材使用率小于30%。为增大靶材使用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需求旋转机构,同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或宝贵靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。

  用磁控靶源溅射金属和合金很容易,焚烧和溅射很便利。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可构成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技能很复杂,因此难大规模采用。为处理此问题,创造晰磁控反响溅射。便是用金属靶,加入氩气和反响气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反响气体化合生成氮化物或氧化物。

  磁控反响溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反响不光发生在零件外表,也发生在阳极,真空腔体外表,以及靶源外表。然后引起灭火,靶源和工件外表起弧等。德国莱宝创造的孪生靶源技能,很好的处理了这个问题。其原理是一对靶源相互为阴阳极,然后消除阳极外表氧化或氮化。

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