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离子束溅射系统

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  • 浅谈离子束溅射系统应用的几个特点

    浅谈离子束溅射系统应用的几个特点镀层附着性能好普通真空镀膜时,蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀,在工件表面与镀层之间,形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。也就是说比一根头发丝的百分
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  • 离子束溅射系统维护的好处

    不管是什么机械产品,想要长久地使用下去,以及在日常使用中有着优良的性能,对于其日常的保养维护肯定是必不可少的。今天给大家说说离子束溅射系统日常保养和维护的好处。一般根据说明书保养和维护的离子束溅射系统,能有效地延长离子束溅射系统的使用寿命,
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  • 离子束溅射系统的实际应用

    离子束溅射系统的应用范围主要可以分为两大类,一类为工具类产品的镀膜,一类为装饰镀膜。对于前者的镀膜,有着延长其使用寿命的作用,对于后者则更多的是表面装饰。工具类镀膜以刀具为例,在其硬质合金打造的刀身表面进行离子镀膜之后,其表面的硬度和自润滑
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  • 磁控溅射镀膜的原理以及优缺点

    真空镀膜工艺分为多种,包括有真空磁控溅射镀膜,蒸发镀以及光学离子镀。现在主要来讲讲磁控溅射镀膜的原理以及优缺点是什么,让大家对这个电镀工艺有所了解,对产品电镀的选用工艺有所帮助。首先,真空磁控溅射镀膜通常应用在金属产品上面,原理为在电场作用
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  • 磁控溅射系统的原理是什么?

    磁控溅射系统的原理是稀薄气体在反常辉光放电发生的等离子体在电场的效果下,对阴极靶材外表进行炮击,把靶材外表的分子、原子、离子及电子等溅射出来,被溅射出来的粒子带有必定的动能,沿必定的方向射向基体外表,在基体表面构成镀层。溅射镀膜开
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  • 磁控溅射镀膜仪靶材的主要方法

    由于磁控溅射镀膜仪的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度,因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度,以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。实现的途径主要有以下几种:a、靶材设计与改进b、增强磁控溅射阴极的磁场c、
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  • 磁控溅射镀膜仪技术的发展及应用

    近年来,随着新材料的开发,尤其是薄膜材料的发展和应用,带动控溅射沉积技术的飞速发展,在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了控溅射沉积镀膜技术的工艺过程及其发展情况,各种主要磁控溅射镀膜仪的特点,并介绍磁控溅射技术在
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  • 蒸发镀膜和溅射镀膜的区别

    真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子束溅射系统。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,
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  • 溅镀工艺的概念及分类

    溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺使用磁控溅射镀膜仪要求真空度在1×10-3Torr左右,即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar),并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,由于辉光放电(g
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  • 磁控溅射镀膜仪的操作规范

    磁控溅射镀膜仪的操作规范1.正常工作的磁控溅射镀膜仪在开动时,需要先将水管打开,在磁控溅射镀膜仪运行之中要时刻注意水压的状态;2.在离子轰击和蒸发时,要特别注意线路方面的情况,不得触动高压线头,以防触电;3.在用磁控溅射镀膜仪的电子枪的时候
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